3 Odon Device研究发现
3.1 临床前研究实验评价
C de Lange 利用超声造影技术评估Odon Device位置错误时颈缩对新生仔猪脑灌注的影响[17]。研究发现，在Odon Device位置错误时，颈部周围的空气室可给颈部血管带来相当大的压力，在这种大量压迫下，灌注仅适度减少，去除空气室压力后血流动力学和脑循环迅速恢复。这项研究证明，如果在合理监测下，即使Odon Device置入产道的位置不对，对胎儿脑血流灌注造成的不良影响也不会很高，且能较快恢复，说明Odon Device的相对安全性。一项不同胎头位置下Odon Device的置入效果及相关会阴扩张程度的研究[11]发现，在400例模拟分娩中，Odon Device能可靠地放置在超过胎儿头部位置的标准位置（大约超过胎儿下颌40mm）无论胎头位置、大小和方位，没有明显位移。在枕后型分娩中，与枕前型或枕横型分娩相比，Odon Device通常位于胎儿头部下方（朝向下颌）。这表明Odon Device能被可靠地放置在胎儿头部的安全区域，具有临床实践的代表性。并且，当正确使用时，Odon Device与Kiwi胎头吸引器产生的会阴膨胀水平相似，Odon Device、产钳和Kiwi胎头吸引器引起的会阴扩张分别为后四突21mm、26mm和21mm。这表明使用Odon Device不会引起更多的会阴扩张，其所引起的会阴撕裂风险也不会更大。
