基于光源拼接的聚焦纹影技术在总体上具有聚焦纹影技术的特点，如聚焦特性、使用刀口栅切取多个光源像点等。源格栅明暗条纹、源格栅到聚焦透镜的距离L、测试流场到聚焦透镜的距离l等都将影响系统的灵敏度、聚焦深度和分辨率等，这种影响在参考文献[2]中进行了详细分析。因此，设计聚焦纹影系统时需要综合考虑各个参数对指标的影响。但相对于使用菲涅耳透镜的聚焦纹影技术，其不同特点主要体现如下：

a．用面阵光源替换光源和菲涅耳透镜

使用菲涅耳透镜的聚焦纹影光路结构如图2所示，光源通过菲涅耳透镜和源格栅后被分割成多个条形光源，图2中源格栅中每根宽度为3mm的透明条纹位置相当于一个条形光源。聚焦透镜对条形状光源成像在刀口栅位置，与光源像明暗条纹相反的刀口栅切割光源像后就可以在成像屏上获得测试流场的纹影图像。